N2流量对电弧离子镀Ti1-xAlxN薄膜成分与微观结构的影响
- 作者：王昕徐建华马胜利徐可为阎逢元
- 会议时间：2006-08-01
- 关键词：Ti1-xAlxN薄膜 ; 硬质薄膜 ; 电弧离子镀 ; 微观结构
- 作者单位：王昕,徐建华,马胜利,徐可为(西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,710049,西安)阎逢元(中科院兰州化物所固体润滑国家重点实验室,730000,甘肃兰州)
- 母体文献：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
- 会议名称：第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
- 会议地点：兰州
- 主办单位：中国机械工程学会
- 语种：chi
摘要
用电弧离子镀方法获得了Ti1-xAlxN纳米晶薄膜;考察了沉积过程中N2流量对薄膜沉积速率、化学成分、晶粒尺寸以及微观结构的影响.结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜主要由游离态á-Ti和Ti1-xAlxN固溶体相组成,晶粒尺寸在12.5-18 nm之间变化.随N2流量的升高,Ti1-xAlxN薄膜的沉积速率降低;Al的相对含量x在0.15-0.20之间变化,并随N2流量的升高先增大再减小,在20sccm时Al含量取得最大值;晶面间距则是先减小后增大,在N2流量为20sccm时取得最小值;而Ti1-xAlxN薄膜的晶粒尺寸随N2流量的增加逐渐减小.