MoS_2薄膜电子性质随层数变化的理论研究
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  • 作者:张恬 ; 岳芳 ; 林燕菁 ; 周倩 ; 史芹凡 ; 魏云 ; 樊代和 ; 刘其军 ; 刘正堂
  • 关键词:MoS_2 ; 表面 ; 电子结构 ; 第一性原理
  • 中文刊名:DZZZ
  • 英文刊名:Practical Electronics
  • 机构:西南交通大学物理科学与技术学院;西北工业大学材料学院;
  • 出版日期:2019-06-01
  • 出版单位:电子制作
  • 年:2019
  • 期:No.375
  • 基金:2018年四川省大学生创新创业训练计划项目(2018115);; 中国高教学会理科教育专业委员会高等理科教育研究课题;; 西南交通大学十七期重点实验室开放项目(GD201817068);; 西南交通大学2019年度校级本科教育教学研究与改革项目
  • 语种:中文;
  • 页:DZZZ201911030
  • 页数:2
  • CN:11
  • ISSN:11-3571/TN
  • 分类号:86-87
摘要
本文采用基于密度泛函理论的第一性原理方法计算了体相和1-10层3R-MoS_2的几何结构和电子结构。计算获得了体相3R-MoS_2的几何结构参数,与实验值相一致,表明了计算方法和参数设置的可靠性。随后,分别计算了1-10层3R-MoS_2的几何结构和电子性质。可以看到,优化后的结构参数c随层数增加而线性增加;计算得到的带隙值随着层数的增加而呈现出减小趋势,并趋于稳定值。
        
引文
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