电化学法制备HAP-TC4涂层的工艺性能研究
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  • 英文篇名:Study on Electrochemical Process Performance of HAP-TC4 Coating
  • 作者:王冰莹 ; 徐国辉 ; 宋刚
  • 英文作者:WANG Bingying;XU Guohui;SONG Gang;Luoyang Institute of Science and Technology;
  • 关键词:钛合金 ; 羟基磷灰石 ; 共沉淀法 ; 电化学法
  • 英文关键词:titanium alloy;;hydroxyapatite;;coprecipitation;;electrochemical process
  • 中文刊名:LYGY
  • 英文刊名:Journal of Luoyang Institute of Science and Technology(Natural Science Edition)
  • 机构:洛阳理工学院材料科学与工程学院;
  • 出版日期:2017-12-25
  • 出版单位:洛阳理工学院学报(自然科学版)
  • 年:2017
  • 期:v.27
  • 语种:中文;
  • 页:LYGY201704003
  • 页数:5
  • CN:04
  • ISSN:41-1403/N
  • 分类号:13-16+99
摘要
本文对共沉淀法制备HAP粉体及电化学法制备HAP涂层进行了工艺性能探究。HAP粉体制备中,按Ca/P比为1.67配置Ca(NO_3)_2·4H_2O和(NH_4)_2HPO_4溶液,控制反应溶液pH值及烧结温度等因素,通过SEM电镜观察组织形貌,分析pH值对致密度、孔隙度等的影响,结果表明pH=9时效果较佳;烧结温度在700℃时形貌较为理想。在电化学法制备HAP涂层实验中,通过改变沉积电压,得出在-3V沉积时涂层与基体结合较为理想。同时研究了沉积涂层质量、电流与时间之间的关系,这将为控制沉积时间控制涂层厚度提供理论依据。
        In this paper,both coprecipitation preparation of HAP powder and the electrochemical preparation of HAP coating process performance are done. HAP powder preparation,which is Ca/P ratio 1. 67 configuration Ca(NO_3)_2·4 H_2O and(NH_4)_2HPO_4 solution,is done when PH and sintering temperature on the reaction solution are considered. Tissue morphology is observed by SEM. Influence of p H value on the density and porosity are analyzed. Results show that the effect is better when p H is 9. Sintering temperature at700 ℃ is good.. In the electrochemical preparation of HAP coating experiments,by changing the deposition voltage,when the voltage is-3 V,deposition coating and matrix combined are better. The deposition coating quality were studied,the relationship between the current and time is done,which will provide theoretical basis for control of deposition time control coating thickness.
引文
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