浅析真空镀膜技术的现状及进展
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  • 作者:王伟
  • 关键词:真空镀膜 ; 发展趋势 ; 技术原理
  • 中文刊名:HLKX
  • 英文刊名:Scientific and Technological Innovation
  • 机构:芜湖长信科技股份有限公司;
  • 出版日期:2018-10-05
  • 出版单位:科学技术创新
  • 年:2018
  • 语种:中文;
  • 页:HLKX201828089
  • 页数:2
  • CN:28
  • ISSN:23-1600/N
  • 分类号:151-152
摘要
随着可持续发展观的深入普及和社会经济的快速发展,经济与环保协同发展成为当下企业发展和科技创新的主要趋势。传统的通电镀膜技术会产生较大的污染,且镀膜质量不高,经济效益低下,已逐渐退出历史舞台,取而代之的是技术更加先进、镀膜质量更加优秀的真空镀膜技术。真空镀膜技术不仅能够满足人们对于产品外观的需求,而且在镀膜过程中不会对周围环境产生较大的污染。基于此,本文将对真空镀膜的技术原理及特点、发展历程和趋势进行相关论述。
        
引文
[1]邱英浩,曹晓明.真空镀膜技术的现状及进展[J].天津冶金,2014(5):45-48.
    [2]白秀琴,李建,严新平等.真空镀膜技术在塑料表面金属化上的应用[J].武汉理工大学学报,2015,29(6):947-950.
    [3]李西忠.塑料镀膜用涂料[J].中外技术情报,2015(10):29-30.

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