气相色谱-质谱法同时测定高纯三氯氢硅中4种甲基氯硅烷的方法研究

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英文篇名：Study on gas chromatography-mass spectrometry method for determination of 4 kinds of methylchlorosilane in high purity trichlorosilane 作者：杨红燕 英文作者：Yang Hongyan;Yunnan Metallurgical Yunxin Silicon Material Co.,Ltd.;Key Laboratory of Yunnan Province Optoelectronic Silicon Materials Preparation Technology Enterprises; 关键词：GC-MS ; 三氯氢硅 ; 一甲基二氯硅烷 ; 三甲基一氯硅烷 ; 一甲基三氯硅烷 ; 二甲基二氯硅烷 英文关键词：GC-MS;;Trichlorosilane;;Methyldichlorosilane;;Trimethylchlorosilane;;Methyltrichlorosilane;;Dimethyldichlorosilane 中文刊名：FXYQ 英文刊名：Analytical Instrumentation 机构：云南冶金云芯硅材股份有限公司;云南省光电子硅材料制备技术重点实验室; 出版日期：2019-01-28 出版单位：分析仪器 年：2019 期：No.222 语种：中文; 页：FXYQ201901016 页数：5 CN：01 ISSN：11-1822/TH 分类号：94-98

摘要

以1,2-二氯乙烷为内标,采用气相色谱-质谱(GC-MS)联用仪用内标法对多晶硅生产用高纯三氯氢硅(SiHCl3)中一甲基二氯硅烷、三甲基一氯硅烷、一甲基三氯硅烷及二甲基二氯硅烷4种杂质快速分离与测定。结果表明,4种甲基氯硅烷经毛细管柱在3min之内实现较好的分离,该方法重现性较好,可用于多晶硅生产用三氯氢硅中含碳杂质甲基氯硅烷的分析测定。
        1,2-dichloroethane was used as internal standard.Methyldichlorosilane,trimethylchlorosilane,methyltrichlorosilane and dimethyldichlorosilane were separated within 3 minutes.The experimental results showed that the reproducibility was good.This method can be used for measurement of 4 kinds of methylchlorosilane in trichlorosilane for polysilicon production.

引文

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