电感耦合等离子体质谱法测定电子级NF_3中金属杂质

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英文篇名：Determination of metal impurities in electronic grade NF_3 by inductively coupled plasma mass spectrometry 作者：焦培培 ; 黄晓磊 ; 杨亚琴 ; 吴旭飞 ; 付梦月 ; 张亚平 英文作者：Jiao Peipei;Huang Xiaolei;Yang Yaqin;Wu Xufei;Fu Mengyue;Zhang Yaping;Liming Research & Design Institute of Chemical Industry Co., Ltd.; 关键词：电感耦合等离子体质谱法(ICP—MS) ; NF3 ; 金属杂质 英文关键词：inductively coupled plasma mass spectrometry(ICP-MS);;NF3;;metal impurity 中文刊名：HXTJ 英文刊名：Chemical Propellants & Polymeric Materials 机构：洛阳黎明大成氟化工有限公司;黎明化工研究设计院有限责任公司; 出版日期：2018-09-28 出版单位：化学推进剂与高分子材料 年：2018 期：v.16;No.95 语种：中文; 页：HXTJ201805036 页数：4 CN：05 ISSN：41-1354/TQ 分类号：91-94

摘要

采用密闭的取样系统吸收电子级NF_3中金属杂质,利用电感耦合等离子体质谱法(ICP—MS)测定了吸收液的金属杂质含量。结果表明:该方法测定电子级NF_3中金属杂质含量的相对标准偏差≤3.09%,NF_3中各项金属杂质含量远远低于指标3×10–9。
        A closed sampling system was used to absorb the metal impurities in the electronic grade NF_3. The content of metal impurities in the absorption liquid was determined by using the inductively coupled plasma mass spectrometry(ICP-MS). The results show that the relative standard deviation of metal impurities content in electronic grade NF_3 is not more than 3.09%, and the content of various metal impurities in NF_3 is much less than the index value 3×10~(–9).

引文

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