ICP-OES测定金属镓中杂质元素

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	作者：杨桂芳 ; 金兰英 ; 汪洋 关键词：金属镓 ; ICP-OES ; 基体MSF 中文刊名：YAJI 英文刊名：Modern Metallurgy 机构：南京金美镓业有限公司; 出版日期：2019-02-15 出版单位：现代冶金 年：2019 期：v.47;No.249 语种：中文; 页：YAJI201901006 页数：3 CN：01 ISSN：32-1799/TF 分类号：25-27

摘要

介绍了电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)在直接测定金属镓中杂质含量上的应用。研究了仪器工作条件选定、分析线的选择、基体和酸干扰去除、检出限测量、精密度测量、回收率的测定。结果表明该方法简便、快捷,有很好的分析精密度和较高的准确度,是一种较为理想的测定金属镓中杂质含量的方法。
        

引文

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