摘要
本文用RF磁控溅射的方法在Si片上沉积ZnO薄膜,探讨了衬底温度、氧氩比和退火处理和薄膜的结晶速率、结晶质量和电阻率的关系,为沉积符合气敏元件的ZnO敏感薄膜提供研究参考。
引文
[1]刘志文,付伟佳,刘明等.磁控溅射Zn O薄膜的退火热力学行为研究[J].电子显微学报,2007,26(06):541-547.
[2]Yu J,Huang B,Qin X,et al.Hydrothermal synthesis and characterization of ZnO films with different nanostructures[J].Applied Surface Science,2011,257(13):5563-5565.
[3]Ameen S,Akhtar M S,Kim Y S,et al.An effective nanocomposite of polyaniline and Zn O:preparation,characterizations,and its photocatalytic activity[J].Colloid&Polymer Science,2011,289(04):415-421.
[4]王晓冬.MEMS低功耗氧化锌气体传感器的设计[J].电子制作,2014(13):1-2.
[5]宋学萍,周旭,孙兆奇.射频磁控溅射Zn O薄膜的结构和应力特性[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2007,30(09):1117-1120.