基于气敏元件的ZnO薄膜的RF制备及表征
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  • 作者:李超
  • 关键词:ZnO薄膜 ; 磁控溅射 ; 气敏元件 ; 电阻率
  • 中文刊名:SDGJ
  • 英文刊名:Shandong Industrial Technology
  • 机构:遵义医学院医学信息工程学院;
  • 出版日期:2018-08-17
  • 出版单位:山东工业技术
  • 年:2018
  • 期:No.272
  • 语种:中文;
  • 页:SDGJ201818042
  • 页数:2
  • CN:18
  • ISSN:37-1222/T
  • 分类号:53-54
摘要
本文用RF磁控溅射的方法在Si片上沉积ZnO薄膜,探讨了衬底温度、氧氩比和退火处理和薄膜的结晶速率、结晶质量和电阻率的关系,为沉积符合气敏元件的ZnO敏感薄膜提供研究参考。
        
引文
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