高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法
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- 论文作者：诸波尔 ; 李思坤 ; 王向朝
- 年：2016
- 作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院大学;
- 会议召开时间：2016-09-25
- 会议录名称：第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
- 语种：中文
- 分类号：TN305.7
- 学会代码：GNCS
- 会议名称：第十六届全国光学测试学术交流会
- 会议地点：中国上海
- 主办单位：中国光学学会光学测试专业委员会
- 学会名称：中国光学学会光学测试专业委员会
- 页数：1
- 文件大小：21386k
- 原文格式：D
- 会议级别：全国
摘要
<正>光刻投影物镜的波像差是影响光刻机套刻精度和成像分辨率的主要因素之一。随着光刻技术从干式发展至浸没式,光刻机投影物镜的数值孔径增加到1.35,高阶波像差(主要为Z~Z)的影响变得不可忽略。为了使掩模图形高保真度地成像到硅片上,3 8 6 4需要对大数值孔径光刻机投影物镜高阶波像差进行快速、高精度检测。
引文