基于平面光栅尺的光刻机工件台位置测量技术研究
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- 论文作者：郑亚忠 ; 戴凤钊 ; 步扬 ; 王向朝
- 年：2016
- 作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院大学;
- 会议召开时间：2016-09-25
- 会议录名称：第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
- 语种：中文
- 分类号：TN305.7
- 学会代码：GNCS
- 会议名称：第十六届全国光学测试学术交流会
- 会议地点：中国上海
- 主办单位：中国光学学会光学测试专业委员会
- 学会名称：中国光学学会光学测试专业委员会
- 页数：1
- 文件大小：10112k
- 原文格式：D
- 会议级别：全国
摘要
<正>1.引言作为集成电路制造的核心装备,光刻机决定了集成电路的特征尺寸和集成度。工件台是光刻机的核心分系统,直接影响光刻机三大性能指标中的产率和套刻精度。自32nm节点起,光刻机套刻精度要求达到2.8nm以下。光刻机套刻精度直接受工件台定位精度影响,而工件台定位精度又受到工件台位置测量精度的制约。双频激光干涉仪由于测量光程长,易受环境变化影响,测量精度已不能满足32nm以下节点光刻机
引文