浅谈半导体晶面对光催化活性的影响

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• 论文作者：陈庆国 ; 晋晓峰 ; 周蕾玲 ; 程雪芬 ; 顾菲菲 ; 吴媛霞 ; 臧真娟 ; 何莹 ; 朱春胜 ; 洪军
• 年：2016
• 作者机构：国家铜铅锌及制品质量监督检验中心;国家印制电路板质量监督检验中心(安徽);
• 论文关键词：半导体 ; 晶面工程 ; 光催化活性 ; 光催化剂
• 会议召开时间：2016-11-12
• 会议录名称：第十三届全国工业催化技术及应用年会论文集
• 语种：中文
• 分类号：O643.36
• 学会代码：GYCH
• 会议名称：第十三届全国工业催化技术及应用年会
• 会议地点：中国广东广州
• 主办单位：全国工业催化信息站、工业催化杂志社
• 学会名称：工业催化杂志社
• 页数：2
• 文件大小：105k
• 原文格式：O
• 会议级别：全国

摘要

半导体晶面工程在增强光催化活性方面起到重要作用而引起关注,晶面影响光催化活性的根源值得深入研究。探讨单一晶面半导体光催化性能与暴露晶面之间的关系,从表面缺陷、内电场、表面原子结构和表面电子结构等方面揭示了半导体光催化剂形貌的变化导致性能的改变,利用晶面工程来指导设计更高性能的光催化剂方面具有重要的理论与现实意义。

引文

[1]范少华,崔玉民.光催化技术在污水处理方面的应用[J].化工进展,2001,21(5):345-348.
    [2]丛文娟,霍超,刘化章.高比表面积纳米MgO的制备及其在催化反应中的应用[J].工业催化,2015,23(6):419-423.
    [3]李楠,王长发,吴丽威.金属氧化物纳米催化剂的晶面效应研究进展[J].工业催化,2015,23(6):433-437.