新型无铍深紫外非线性光学晶体材料
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摘要
<正>深紫外非线性光学(NLO)晶体在半导体光刻、激光光电子能谱仪和激光切割等众多领域具有重要应用。目前唯一能倍频输出深紫外激光的NLO晶体KBe_2BO_3F_2(KBBF)含剧毒铍元素且其晶体层状生长习性严重,限制了其商业化应用[1]。基于此,一方面,我们对KBBF进行结构设计和改造,相继发展了一系列继承了KBBF结构优点(BO_3非线性功能基元一致排列)但层间作用力显著增强(最高达KBBF的9.5倍以上)的新型硼酸盐无铍深紫外NLO材料,如Li_4Sr(BO_3)_2[2]、Rb_3Al_3B_3O_(10)F[3]和
引文
[1]Cyranoski,D.Nature 2009,457,953.
    [2]Zhao,S.G.;Gong,P.F.;Bai,L.;Xu,X.;Zhang,S.Q.;Sun,Z.H.;Lin,Z.S.;Hong,M.C.;Chen,C.T.;Luo,J.H.Nat.Commun.2014,5,4019.
    [3]Zhao,S.G.;Gong,P.F.;Luo,S.Y.;Liu,S.J.;Li,L.N.;Asghar,M.A.;Khan,T.;Hong,M.C.;Lin,Z.S.;Luo,J.H.J.Am.Chem.Soc.2015,137,2207.
    [4]Zhao,S.G.;Kang,L.;Shen,Y.G.;Wang,X.D.;Asghar,M.A.;Lin,Z.S.;Xu,Y.Y.;Zeng,S.Y.;Hong,M.C.;Luo,J.H.J.Am.Chem.Soc.Just Accepted.
    [5]Zhao,S.G.;Gong,P.F.;Luo,S.Y.;Bai,L.;Lin,Z.S.;Ji,C.M.;Chen,T.L.;Hong,M.C.;Luo,J.H.J.Am.Chem.Soc.2014,136,8560.
    [6]Zhao,S.G.;Gong,P.F.;Luo,S.Y.;Bai,L.;Lin,Z.S.;Tang,Y.Y.;Zhou,Y.L.;Hong,M.C.;Luo,J.H.Angew.Chem.Int.Ed.2015,54,4217.

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