GaAs在Pt/GaAs/电解液三相界面自发的阳极腐蚀现象
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摘要
砷化镓(GaAs)在半导体家族中已迅速成长为仅次于硅的最重要的半导体电子材料,在微/纳米领域里有着广泛的应用~([1])。砷化镓中电子具有很高的迁移率,禁带宽度大,能带结构属直接跃迁型,光转换效率明显高于其他半导体材料~([2]),具有广阔的应用前景。我们发现在Pt与GaAs接触形成的肖特基结与KMnO_4溶液体系(40mM KMnO_4、1.84M H_2SO_4)所形成的三相界面上,GaAs会发生自发的阳极腐蚀;而且,由于半导体的光电效应,光照会加剧这一腐蚀过程。这一物理化学现象在GaAs能源和传感器件中具有潜在的应用价值。
We find the spontaneous corrosion of GaA s at 3-Phase Interface between Platinum, Ga As and Electrolyte Solution. We investigate this process with electrochemical methods such as OCP、linear sweep voltammetry and Tafel curves. We also found that photoelectric effect can accelerate this process.
引文
[1]Zhang,S.;Li,S.;Zhou,W.;Zheng,L.Chem.Phys.2011,135:14304.
    [2]Hjort,K.;Soderkvist,J.;Schweitz,J.A.J.Micromech.Microeng.1994,4:1-13.
    [3]查全性.电极过程动力学导论[M].科学出版社,2002.137-141

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