Nb-Ti-Si基超高温合金表面Ge-Y改性硅化物渗层的组织形成

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• 作者：杨凌霄郭喜平乔彦强潘若冰
• 会议时间：2013-07-03
• 关键词：超高温合金 ; 硅化物渗层 ; 表面改性 ; 成分分析 ; 组织结构
• 作者单位：西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安 710072
• 母体文献：第二届金属间化合物学会学术研讨会论文集
• 会议名称：第二届金属间化合物学会学术研讨会
• 会议地点：黑龙江黑河
• 主办单位：中国材料研究学会
• 语种：chi

摘要

为提高Nb-Ti-Si基超高温合金的高温抗氧化性能,采用Si-Ge-Y共渗工艺在其表面制备了Ge-Y改性的硅化物渗层.利用XRD,SEM和EDS分析了渗层的结构和相组成,并对其组织形成机理进行了讨论.结果表明:所制备的渗层具有明显的分层结构,由外至内依次为(Nb,X)(Si,Ge)2 (X代表Ti,Cr和Hf)外层和(Ti,Nb)5(Si,Ge)4内层;Ge在渗层中的含量由外向内逐渐增加.与Y改性硅化物渗层相比,Ge-Y改性硅化物渗层的组织并未发生显著改变,但Ge的添加会在一定程度上减少Si在共渗层表面的吸附和沉积,对渗层的生长有明显的抑制作用.保温不同时间(0-8 h)所制备的渗层具有相似的结构,渗层的生长动力学曲线符合抛物线规律.