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Elsevier电子期刊(3)
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Elsevier电子期刊
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3
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3
条
1.
Second-oxidation properties of thin polysilicon films grown by LPCVD and heavily in situ boron-doped
作者:
Boukezzata
;
M.
;
Birouk
;
B.
;
Bielle
-
Daspet
;
D.
关键词:
Second-oxidation
;
Boron
;
LPCVD-Si layers
;
In situ doped
刊名:Thin Solid Films
出版年:1998
2.
Characteristics of the thermal oxidation of heavily boron-doped polycrystalline silicon thin films
作者:
Boukezzata
;
M.
;
Bielle
-
Daspet
;
D.
;
Sarrabayrouse
;
G.
;
Mansour
;
F.
关键词:
Oxidation
;
Chemical vapour deposition
;
Boron
;
Silicon
;
Ion implantation
刊名:Thin Solid Films
出版年:1996
3.
Conductivity of boron-implanted polycrystalline thin silicon films
作者:
Mansour
;
F.
;
Bouchemat
;
M.
;
Boukezzata
;
M.
;
Touidjen
;
N. H.
;
Bielle
-
Daspet
;
D.
;
Mirouh
;
K.
关键词:
Boron
;
Electrical properties and measurements
;
Hall effect
;
Segregation
刊名:Thin Solid Films
出版年:1995
1
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