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Elsevier电子期刊(1)
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Elsevier电子期刊
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1
条
1.
Electrical characterization of thulium silicate interfacial layers for integration in high-k/metal gate CMOS technology
作者:
Eugenio
Dentoni
Litta
;
eudl@kth.se" class="auth_mail
;
Per-Erik Hellströ
m ;
Christoph Henkel
1
;
Mikael Ö
;
stling
关键词:
TmSiO
;
LaSiO
;
Silicate
;
Interfacial layer
;
High-k
刊名:Solid-State Electronics
出版年:August 2014
1
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