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条
1.
硅烷流量对热丝法制备富硅
氮化硅薄膜
的影响
作者:
闫泽飞
;
周炳卿
;
李婷婷
关键词:
热丝化学气相沉积
;
富硅
氮化硅薄膜
;
硅烷流量
;
化学键结构
年:2018
2.
氮化硅薄膜
刻蚀研究
作者:
范亚娟
关键词:
氮化硅薄膜
;
化学气相沉积法(CVD)
;
反应离子刻蚀
年:2018
3.
电工电子技术情景化教学模式的探析
作者:
张鹏飞
关键词:
电工电子
;
情景化
;
教学研究
年:2019
4.
基体偏压对直流非平衡磁控溅射
氮化硅薄膜
生长特性的影响
作者:
石志锋
;
郑志雯
;
宁成云
;
王迎军
关键词:
单晶硅
;
氮化硅薄膜
;
非平衡磁控溅射
;
基体偏压
;
沉积速率
;
表面形貌
;
化学态
年:2018
5.
管式PECVD
氮化硅薄膜
不同退火环境的工艺研究
作者:
郭丽
;
武纹平
;
陈丽
关键词:
氮化硅薄膜
;
管式PECVD
;
真空
;
退火
年:2018
6.
LED结温检测方法的分析
作者:
文官富
关键词:
集成封装
;
多芯片
;
LED结温
;
正向电压
;
脉冲电流法
年:2019
7.
贝塞尔模型在黄酒发酵温控系统中的应用
作者:
范雪
;
张爱良
;
刘登峰
关键词:
贝塞尔模型
;
温度控制系统
;
Visual
;
Studio
;
2015
;
温度仿真
年:2019
8.
电极和匀气盘结构对PECVD
氮化硅薄膜
性能的影响
作者:
韩东
;
牛文举
;
尹伊君
;
韩建强
关键词:
氮化硅薄膜
;
残余应力
;
等离子增强化学气相沉积(PECVD)
;
电极结构
;
KOH腐蚀
年:2017
9.
氮气对PECVD制备
氮化硅薄膜
结构与性质的影响
作者:
部芯芯
;
周炳卿
;
丁德松
关键词:
非晶
氮化硅薄膜
;
PECVD
;
光学带隙
;
Si3N4晶粒
年:2017
10.
LPCVD Si_3N_4工艺中副产物NH_4Cl去除的研究
作者:
林洪春
;
朱应强
;
薛斌
关键词:
化学气相淀积
;
氮化硅薄膜
;
颗粒
;
膜厚
;
应力
年:2018
1
2
3
4
5
6
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8
9
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