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1.
豪威科技发布其首款0.8μm 3200万像素图像传感器
年:2019
2.
亚微米
CMOS
芯片与制程剖面结构
作者:
潘桂忠
关键词:
集成电路制造
;
Submiron
;
CMOS
芯片
;
制程平面
;
剖面结构
年:2019
3.
LV/
HV
兼容Twice-Well
CMOS
芯片与制程结构
作者:
潘桂忠
关键词:
集成电路制造工艺
;
偏置栅结构
;
LV/
HV
兼容Twice-Well
;
CMOS
芯片结构
;
制程剖面结构
年:2017
4.
LV/
HV
兼容
CMOS
芯片与制程结构
作者:
潘桂忠
关键词:
集成电路制造工艺
;
偏置栅结构
;
LV/
HV
兼容
CMOS
芯片结构
;
制程平面
;
剖面结构
年:2017
5.
适用于FPGA的浮点型DSP硬核结构设计
作者:
赵赫
;
黄志洪
;
余乐
;
杨海钢
;
许仕龙
;
郝亚男
关键词:
现场可编程门阵列
;
数字信号处理器
;
硬核结构
;
浮点数运算
年:2019
6.
基于亚稳态检测的SAR ADC电容失配校准算法
作者:
彭传伟
;
唐鹤
;
何生生
关键词:
逐次逼近型模数转换器
;
亚稳态
;
电容失配
年:2019
7.
LV/
HV
P-Well Bi
CMOS
[B]芯片与制程结构
作者:
潘桂忠
关键词:
集成电路制造
;
偏置栅结构
;
LV/
HV
;
P-Well
;
Bi
CMOS
[B]芯片结构
;
制程剖面结构
年:2018
8.
LV/
HV
Twin-Well BCD[B]技术(2)芯片与制程剖面结构
作者:
潘桂忠
关键词:
集成电路制造
;
偏置栅结构
;
LV/
HV
;
Twin-Well
;
BCD[B]芯片结构
;
制程剖面结构
年:2019
9.
深槽对0.35 μm
CMOS
管抗闩锁性能的影响研究
作者:
冯霞
;
张霞
关键词:
闩锁
;
深槽
;
Bi
CMOS
年:2018
10.
一种提高WPE在仿真中准确性的方法
作者:
杜浪
;
黄其煜
关键词:
集成电路设计
;
阱临近效应
;
版图依赖效应
;
MOSFET
年:2019
1
2
3
4
5
6
7
8
9
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