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1.
砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法
标准编号:GB/T 11068-2006
标准类型:国家标准
关键词:
镓无机化合物
;
载流子浓度
;
试验
;
外延层
;
砷化物
镓
发布单位:全国有色金属标准化技术委员会
发布日期:2006-07-18
实施日期:2006-11-01
2.
重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
标准编号:GB/T 14847-2010
标准类型:国家标准
发布日期:2011-01-10
实施日期:2011-10-01
3.
硅外延片
标准编号:GB/T 14139-2009
标准类型:国家标准
发布单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
4.
砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法
标准编号:GB/T 8758-2006
标准类型:国家标准
关键词:
干涉测量法
;
红外线辐射
;
砷化物
;
厚度测量
;
外延层
;
镓无机化合物
砷
发布单位:全国有色金属标准化技术委员会
发布日期:2006-07-18
实施日期:2006-11-01
5.
硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
标准编号:GB/T 14146-2009
标准类型:国家标准
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
6.
硅抛光片和外延片表面质量光反射测试方法
标准编号:GB/T 17169-1997
标准类型:国家标准
关键词:
衬底(绝缘)
;
抛光片
;
无损检验
;
质量
;
表面
;
半导体
;
反射
硅 ;
外延片
发布单位:中国有色金属工业总公司标准计量研究所
发布日期:1997-12-22
实施日期:1998-08-01
7.
砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法
标准编号:GB/T 11068-1989
标准类型:国家标准
关键词:
镓无机化合物
;
载流子浓度
;
试验
;
外延层
;
砷化物
发布日期:1989-03-31
实施日期:1990-02-01
8.
重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
标准编号:GB/T 14847-1993
标准类型:国家标准
关键词:
测量
;
外延层
;
厚度
;
红外线辐射
;
衬底(绝缘)
硅
发布日期:1993-12-30
实施日期:1994-09-01
9.
硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
标准编号:GB/T 14141-1993
标准类型:国家标准
关键词:硅 ;
扩散
;
电阻测量
;
离子
;
外延层
发布日期:1993-02-06
实施日期:1993-10-01
10.
硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
标准编号:GB/T 14146-1993
标准类型:国家标准
关键词:
汞探针
;
载流子
;
浓度
发布日期:1993-02-06
实施日期:1993-10-01
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