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条
1.
氧分压对HfOxNy薄膜结构和力学性能的影响
作者:
刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
关键词:
氮氧化铪薄膜
;
射频磁控
反应溅射
;
晶体结构
;
显微结构
;
力学性能
会议时间:2010-10-01
2.
反应溅射
(Al,Ti)(O,N)涂层的微结构与力学性能
作者:
许辉祝新发胡祖光刘艳李戈扬
关键词:
反应溅射
;
铝钛复合涂层
;
涂层微结构
;
薄膜力学性能
;
择优取向
会议时间:2006-08-01
3.
Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究
作者:
付志强王成彪岳文周家斌彭志坚于翔
关键词:
Al-AlN
;
选择性吸收涂层
;
中频
反应溅射
;
工艺参数
会议时间:2009-10-14
4.
射频
反应溅射
制备AlN薄膜的研究
作者:
李侃董树荣王德苗
关键词:
AlN
;
压电薄膜
;
射频反应磁控溅射
;
择优取向
;
FBAR
会议时间:2006-09-21
5.
采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
作者:
孙维连杨钰瑛李新领
关键词:
磁控溅射
;
氮化锆
;
不锈钢
;
真空炉
会议时间:2006-07-15
6.
大面积磁控溅射技术的最新进展与应用
作者:
姜燮昌
关键词:
镀膜
;
磁控溅射
;
工艺参数
;
膜层质量
会议时间:2004-05-31
7.
直流反应磁控溅射制备B-C-N三元膜的成分及结构
作者:
徐淑艳马欣新孙明仁
关键词:
超硬材料
;
直流反应磁控溅射
;
X射线光电子谱
;
硼碳氮薄膜
;
化学成份
;
价态结构
会议时间:2004-04-09
8.
退火处理对CdIn<,2>O<,4>薄膜光电特性的影响及温差电动势的研究
作者:
杨丰帆王万录廖克俊付光宗张瑞俭曹春兰
关键词:
光电特性
;
退火处理
;
温差电动势
;
磁控溅射
;
半导体薄膜
会议时间:2004-05-31
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