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CNKI学位论文(36)
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数理科学和化学(1)
工业技术(35)
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CNKI学位论文
”中,
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36
条,耗时:0.0289829 秒
在所有数据库中总计命中:
65
条
1.
纳米CMOS器件的新测量方法并用于可靠性的研究
作者:
刘文军
关键词:
CMOS
;
pMOSFETs
;
负偏压温度不稳定性
;
可靠性
;
恢复
;
电荷泵
;
直流电流电压
;
反应-扩散模型
;
界面陷阱
;
氧化层电荷
;
实时界面陷阱测量
;
快速脉冲I_d-V_g测量
;
等离子氮化
;
热氮化
论文级别:
博士
学位年度:2009
2.
SoC嵌入式栅氧击穿测试技术及IP开发
作者:
吕玉冰
关键词:
CMOS可靠性
;
TDDB
;
失效分析
;
监测单元电路
;
外推法
论文级别:
硕士
学位年度:2007
3.
90nm NMOS器件
TDDB
击穿特性研究
作者:
周鹏举
关键词:
NMOS器件
;
经时击穿
;
器件寿命
;
缺陷密度
论文级别:
硕士
学位年度:2007
4.
OTP存储器设计研究
作者:
周知名
关键词:
一次性可编程存储器
;
标准CMOS工艺
;
栅氧化层击穿
;
经时击穿模型
;
沟道热电子注入
;
FN隧道效应
论文级别:
硕士
学位年度:2010
5.
超薄栅氧化层的
TDDB
特性与寿命评估
作者:
廖翠萍
关键词:
超薄栅氧化层
;
经时绝缘击穿
;
恒定电压法
;
寿命预测
;
高k栅介质
论文级别:
硕士
学位年度:2007
6.
功率集成电路中高压MOS器件及其可靠性的研究
作者:
韩成功
关键词:
N型横向双扩散MOS
;
热载流子注入
;
雪崩击穿
;
可靠性
;
漏扩展PMOS
论文级别:
硕士
学位年度:2010
7.
一种高压MOS器件栅极氧化层制程改善方法
作者:
许喆
关键词:
栅极氧化层
;
高压MOS器件
;
TDDB
;
VBD
;
可靠性
;
制程改善
;
CMP
论文级别:
硕士
学位年度:2010
8.
超薄绝缘层隧道磁阻磁头可靠性研究
作者:
高雷
关键词:
TMR
;
可靠性
;
绝缘层
;
MgO
论文级别:
硕士
学位年度:2008
9.
深亚微米CMOS器件中栅氧化层的经时击穿行为(
TDDB
)及其机理研究
作者:
董科
关键词:
TDDB
;
可靠性
;
F-N隧穿电流
;
电荷泵
论文级别:
硕士
学位年度:2008
10.
ULSI不挥发存储器工艺和产品可靠性测试研究
作者:
范伟海
关键词:
集成电路
;
不挥发存储器
;
可靠性
;
加速应力测试
;
失效时间
论文级别:
硕士
学位年度:2009
1
2
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4
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